2026年3月18日，50nm精度和填补国内空白的玉之泉在慕尼黑上海光博会上亮相。这次展会在上海新国际博览中心举办，吸引了全球超过1200家光电企业参加。玉之泉展出了自研的五大系列直写光刻产品，展示了中国在微纳加工领域的国产化技术突破。这五个系列产品涵盖微纳光学、量子芯片、生物医疗等前沿领域，给行业带来了重要的技术和应用突破。其中双光子三维激光直写光刻系统能实现50nm特征尺寸加工，AOD紫外激光直写光刻系统最小线宽达300nm，飞秒激光微纳加工系统提供特种光纤领域的全流程解决方案，UVD数字投影无掩膜光刻系统适配MEMS和量子芯片快速原型开发，VOP生物体打印光刻系统大幅提升加工效率。这些技术突破是玉之泉长期专注于直写光刻系统研发的结果。杭州玉之泉精密仪器有限公司源自浙江大学玉泉校区，秉承“求是创新”精神。创始人兼CEO张舟洋表示，慕尼黑上海光博会给企业展示成果和对接产业提供了重要平台。他强调玉之泉的技术布局与国家在量子科技、生物制造等领域的战略方向高度契合。未来企业将持续推进技术迭代，扩大产能布局，并拓展全球市场。这次展会汇聚了亚洲光电产业重要企业和专家们。他们参观洽谈、交流热烈，在展示他们最前沿的技术和产品时互相启发和学习。 参加这个展会让玉之泉能够把他们自主创新的成果展示给更多人，同时也为他们对接产业提供了宝贵机会。作为亚洲光电产业重要展会之一，“光启新元·势引未来”主题让人们看到了未来发展趋势。随着技术的不断发展和进步，中国的直写光刻技术与装备也会逐渐走向国际市场。 杭州玉之泉精密仪器有限公司源自浙江大学玉泉校区，秉承“求是创新”精神长期专注于直写光刻系统研发。他们致力于推动高端光刻装备国产化替代。 这次展出的全系产品给参观者留下深刻印象。这些产品覆盖多个前沿领域，技术指标和应用场景均实现重要突破。比如双光子三维激光直写光刻系统可以实现50nm特征尺寸加工；AOD紫外激光直写光刻系统最小线宽达300nm；飞秒激光微纳加工系统提供特种光纤领域从科研到量产的全流程解决方案；UVD数字投影无掩膜光刻系统无需掩膜版适配MEMS、量子芯片快速原型开发；VOP生物体打印光刻系统大幅提升加工效率可实现载细胞材料高精度成型。 这次慕尼黑上海光博会给企业展示成果和对接产业提供了重要平台。玉之泉把他们的自主创新技术应用到实际生产中并拓展全球市场给企业带来了机遇和挑战。 创始人兼CEO张舟洋在接受采访时强调慕尼黑上海光博会对于企业发展非常重要。他们的技术布局与国家在量子科技、生物制造等领域的战略方向高度契合，未来会持续推进技术迭代扩大产能布局并拓展全球市场。 杭州玉之泉精密仪器有限公司源自浙江大学玉泉校区秉承“求是创新”精神长期专注于直写光刻系统研发致力于推动高端光刻装备国产化替代 这次展会汇聚全球超1200家光电企业共话行业创新发展作为亚洲光电产业重要展会之一主题是“光启新元·势引未来” 玉之泉这次展出的全系产品覆盖微纳光学、量子芯片、生物医疗等多个前沿领域技术指标与应用场景均实现重要突破比如双光子三维激光直写光刻系统可实现50nm特征尺寸加工AOD紫外激光直写光刻系统最小线宽达300nm填补国内高端紫外直写设备空白飞秒激光微纳加工系统为特种光纤领域提供从科研到量产的全流程解决方案UVD数字投影无掩膜光刻系统无需掩膜版适配MEMS、量子芯片快速原型开发VOP生物体打印光刻系统大幅提升加工效率可实现载细胞材料高精度成型 创始人兼CEO张舟洋表示慕尼黑上海光博会为企业展示成果、对接产业提供了重要平台玉之泉的技术布局与国家在量子科技、生物制造等领域的战略方向高度契合未来企业将持续推进技术迭代扩大产能布局拓展全球市场以自主创新助力高端科学仪器国产化推动中国直写光刻技术与装备走向国际市场 此次慕尼黑上海光博会把来自全球超过1200家光电企业齐聚一堂展示各自前沿技术给参观者提供了一个了解行业动态和交流学习机会这对于推动中国直写光刻技术与装备走向国际市场具有重要意义