有个好消息，微软给Lace Lithography 公司投了4000万美元，这家挪威初创企业要把芯片制造搞个大新闻，研发一种完全不用光线的设备。Lace的东西不叫光刻机，叫BEUV（超越EUV），他们用氦原子束直接在硅片上画画。如果他们的技术真能行，芯片上的结构能比现在小整整10倍，光束宽度只有0.1纳米，这就比ASML现在用的13.5纳米EUV光刻机强太多了。 John Petersen是Imec光刻科学的头儿，他觉得这个技术路线能让晶体管之类的尺寸再缩小一个数量级，几乎到了难以想象的水平。CEO兼联合创始人Bodil Holst直接把话说绝了：这玩意儿能让芯片厂商实现终极原子级分辨率。不过呢，这条技术路跟别的公司不一样，Substrate和xLight还是用光子，Lace直接抛弃了电磁辐射。这也意味着他们的设备目前还没有现成的工艺生态能接上。虽然实验室里的原型机已经造出来了，要从实验室量产到真正的生产线还得好多年。Lace计划到2029年在试点晶圆厂弄几台设备试试水，真正大规模量产估计还要花更长时间。 ASML花了几十年、几十亿美元才把EUV变成商用产品，就连微软这种大金主也不容易啊。当然了，现在有好多创业公司都想打破ASML的垄断，比如美国的Substrate和xLight也都在搞基于粒子加速器的光源，其中xLight还拿到了美国政府的1.5亿美元资助。佳能也已经在2024年9月给德州电子研究院送了首台纳米压印光刻设备。不过跟这些比起来，Lace的技术路线算是独辟蹊径了。这家公司是由卑尔根大学物理学家Holst和联合创始人Adrià Salvador Palau在2023年搞出来的，现在挪威、西班牙、英国和荷兰加起来有50多名员工呢。他们上个月还在SPIE 2026先进光刻与图形化会议上秀了一把研究成果。 虽说这事儿听着挺玄乎，但反正ASML又多了个新挑战者！