三十年前，日本尼康和佳能掌控着全球90%的光刻机市场份额，占据绝对优势。其中尼康拿下了60%，佳能更是攥着30%。那个时候，ASML只是个不起眼的小角色。不过，这一切都在三十年后发生了天翻地覆的变化。如今，ASML独占全球光刻机市场85%的份额，而尼康和佳能加起来只剩15%左右。这中间到底发生了什么？这个转折点就在于技术路线的选择上。当时，尼康和佳能把大量资金投入到157nm波长光刻机的研发中，这个项目让它们骑虎难下。台积电的林本坚提出了一个不同寻常的想法：利用水来提高分辨率，而不是把波长缩短到157nm。这个方法看起来更简单可行，但尼康和佳能却没有采纳。它们觉得几十亿已经投进去了，不可能轻易改变方向。ASML当时还处于弱势地位，并没有太多可失去的东西。于是他们决定冒险一试，和台积电合作开发了浸润式DUV技术。这次冒险让他们成功了，浸润式DUV技术一下子就把尼康和佳能甩在了身后。后来ASML又和美国合作，搞出了EUV技术，彻底掌握了高端市场的主导权。反观尼康和佳能，当初的几十亿研发费用打了水漂，157nm方案也没能成功量产。它们被自己的沉没成本困住了，不敢掉头转向新的技术路线。如今佳能已经转向研发NIL纳米压印技术试图另辟蹊径，而尼康在光刻机领域几乎处于半放弃状态。 2025年，尼康发布财报显示亏损850亿日元。全年只出货了十来台光刻机。这个数字简直让人难以置信，放在三十年前更是不可想象。从占全球90%的龙头老大变成了今天只有15%的市场份额，日本光刻机巨头是如何一步一步走向衰落呢？ 转折点出现在技术路线的选择上。当时尼康和佳能已经在157nm波长光刻机的研发中投入了大量资金，并且无法轻易退出这个项目。这时候台积电的林本坚提出一个想法：利用水来提高分辨率。水有折射作用，可以把193nm光折射成134nm的短波光源。 这个方法实现起来更容易而且分辨率更高，但是却被尼康和佳能否决了。几十亿美金已经砸进去了，它们不愿意再去尝试新的方案。 而ASML并没有那么多包袱。他们决定冒险一把，和台积电合作开发浸润式DUV技术结果大获成功。 后来ASML又和美国合作开发EUV技术彻底占领了高端市场。反观尼康和佳能，在157nm方案上浪费了大量资源也没能取得成功。 这个故事告诉我们一个简单的道理：有时候不是跑得不够快而是跑错了方向。 如果方向错了不管投入多少资源都无法挽回损失。 这就是日本光刻机巨头如何从占全球90%变成今天只有15%的原因吧！