形势那叫一个严峻，中国光刻机占全球市场份额才0.2%，自给率更是不到1%。光刻机绝对是中国半导体设备中最重要的存在。美国制裁后，连EUV光刻机都没法卖给中国了，浸润式DUV光刻机也在限制范围内。ASML还曾说过，卖给中国的机器比卖给西方的落后10年以上。大家也就能明白为啥芯片产业这么痛苦了。 给大伙儿看两个直观数据就能感受到这个形势有多难。第一个是全球市场格局，ASML、尼康、佳能和上海微电子这四家霸占了100%的市场份额。而国产光刻机的份额只有0.2%，几乎可以忽略不计。另外国内光刻机自给率还不到1%，也就是说造出来的机器主要用在封测环节上，前道制造的那一块国产占比连1%都不到。国内晶圆厂们基本上只能依赖ASML、尼康、佳能这三家来购买设备。 具体买了多少呢？大概是80%的高端设备都被ASML拿走了，剩下的20%低端设备才是日本那两家的。这时候你就知道中国在芯片制造上有多受制于人了。所以中国必须要在这个领域突破才行。 那么上海微电子现在的技术水平怎么样呢？官方显示已经达到了ArF水平，精度是90nm。网友还说能通过多次曝光达到28nm，我就不清楚真假了。不过之前曝光过一台氟化氩光刻机，分辨率小于65nm，用193nm波长光线，套刻精度小于等于8nm。这东西其实离浸润式只差临门一脚了，就是这一步跨不过去。 期待着接下来国产能有突破吧，只要成功达到浸润式水平，局面就能大变样了。