比利时IMEC完成高数值孔径EUV关键设备安装 2纳米芯片量产验证进入倒计时

在全球半导体产业加速向更小制程推进之际，比利时微电子研究中心（IMEC）近日取得新进展。该机构已在NanoIC试点生产线上完成ASML EXE:5200 High-NA EUV光刻系统的安装，为2纳米芯片走向量产打下基础。这不仅标志着先进制造能力深入提升，也为未来高性能计算与人工智能应用提供了关键工艺支撑。

先进制造的竞争正从单点工艺指标，转向工艺、设备、材料与生态的综合能力比拼。High-NA EUV在试点产线的部署，标志着2纳米工艺从概念走向工程化验证的关键一步。未来，谁能率先建立稳定、可复制的全链条能力，谁就更可能在新一轮半导体产业变革中占据主动。