2019年，美国对中国科技产业的封锁举措没能成功卡住芯片产业的发展。这次封锁针对光刻机技术，希望通过限制核心设备的出口来牵制中国。ASML作为EUV光刻机的领军企业，却在这次封锁中扮演了一个特殊的角色。美国政府希望利用ASML的技术优势来限制中国的科技进步。结果这个计划完全落空，因为中国已经给这一领域进行了长期的布局和积累。 上海这边的ASML售后服务中心一度停摆，维修备件也被卡住了，连一颗螺丝都成了问题。不过这一遭遇并没有阻碍中国的前进步伐，反而激发了国产技术的双线突围。 最早的时候，ASML高管就曾断言美国的限制可能让中国落后十年以上。但是事实证明这个断言是错误的。因为早在封锁加码之前，国内企业就已经给DUV光刻设备进行了大量的购买和储备。过去十年间累计交付的相关设备超过了千台，这些设备不仅满足了当下生产需求，也为国内技术自主赢得了宝贵时间。 与此同时，还有另一方面的努力也在进行中。中芯国际等企业把现有DUV设备的潜力给挖到了极致，通过多重曝光等技术已经实现了相当于7nm甚至5nm的制造能力。另外一方面也在推进替代技术的研发和量产。浸没式光刻良率不断提升，双工件台精度达到了纳米级，28纳米光刻已经实现了稳定量产。 这种双线突围给了美国很大的压力。因为他们本来以为能通过限制关键设备来拖慢中国的步伐，结果却让中国的技术快速发展起来。 现在看来，美国在半导体领域原有的控制力正被一点一点撼动。这个游戏规则正在被悄然改变。在全球半导体竞争中光刻设备是绕不开的关键环节，现在国产技术正在扎实地闯出自己的路。 最初大量购入并储备ASML设备不仅是为了满足生产需求，更是为了一场科技持久战提前布局。美国对产业的限制层层加码、步步收紧把封锁的核心靶点锁定在光刻设备上。自从2019年开始禁止出口可制造5纳米及以下顶级EUV光刻设备后，限制范围又扩大到了7纳米及以上所需的DUV设备。现在连28纳米以下设备也几乎被划入“禁区”。 为了达到目的美国持续向荷兰施压给ASML设备出口管制收紧，甚至出现了“只禁不修”的极端做法：已合法采购的设备连维修都变得困难。 这种舆论攻势也在不断升级有美媒宣称自研光刻设备是“扰乱全球供应链”，ASML更是放话“能让落后十年以上”。从盾构机到航母技术等领域都尝过被卡脖子的滋味。不过这次的围堵并没有如愿以偿。 面对不断收紧的限制国内企业早就提前布局并大量购入DUV设备现在看来这些储备发挥了重要作用。 这些年积累下来的DUV设备不仅支撑起了当前5G、汽车电子等领域的需求也为国内技术自主赢得了宝贵时间更为关键的是并没有止步于囤货而是在两条路上同时突围。 目前看来这种做法是非常明智的因为美的封锁某种程度上是在帮加速从芯片到生物从追赶者到并跑者技术正在一个个关键领域闯出自己的路。 美国政府曾经希望通过卡住核心设备来拖慢中国的步伐结果却事与愿违反而让国产技术快速发展起来甚至构建起自己的产业链降低对外依赖。